反應釜的拋光方法

1、機械拋光:整平性好,亮勞動強度大,污染嚴重,復雜件難加工,光澤下降,投資及成本較高簡單工件,中,小產品,復雜件不能加工。整個產品光澤做不到一致,光澤保持時間不長。

2、化學拋光:投資少,復雜件能拋,效率高,速度快光亮度不足,拋光液要加濕,有氣體溢出,需要適風設備。 復雜產品,光亮度要求不高的產品可選用小批量加工較劃算。

3、電化學拋光:達鏡面光澤，長期保持,工藝穩定,污染少,成本低,防污染性好。一次性投資大,復雜件要裝工裝,輔助電極,大量生產要降溫污擋產品,要求長時間保持鏡面光，產品。工藝穩定 ,易操作。